先介绍一下倒装封装。懂芯
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业界普遍认为,片的篇倒倒装封装是封装封装传统封装和先进封装的分界点。
上期我们提到 ,工艺芯片封装发展的先进第三阶段(1990年代) ,代表类型是装封装BGA(球形阵列)封装。早期的懂芯BGA封装,是片的篇倒WB(Wire Bonding,引线) BGA ,免费模板封装封装属于传统封装。工艺
后来 ,先进芯片的装封装体积越来越小,而单颗芯片内的懂芯焊盘数量越来越多(接近或超过1000个) 。传统的片的篇倒引线封装,已经无法满足要求。封装封装
于是,采用倒装技术替换焊线的FC BGA封装 ,就出现了 。
所谓“倒装” ,亿华云就是在晶粒上创造一些由焊料制成的“凸点”或“球”。然后 ,把晶粒反转过来 ,让凸点对准基板上的焊盘,直接扣在基板上。
通过加热 ,让熔融的凸点与基板焊盘相结合 ,实现晶粒与基板的结合 。
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WB BGA与FC BGA
我们来看看具体的工艺流程。
以FC BGA为例 。服务器租用前面减薄、切割、清洗 、光检,和WB BGA(传统封装)差不多。
要把晶粒与基板连在一起(后面会说,这叫“键合”),开始不一样了 。
第一步,是凸点制作(Bumping) 。倒装封装包括热超声、回流焊和热压三种工艺,其凸点分别使用金球、锡球和铜柱。
热超声,模板下载是在超声和温度的共同作用下, 将金凸点“粘”在基板的焊盘上。这种方式,适用于I/O密度较小的芯片。
回流焊,是在锡凸点表面涂覆助焊剂 ,再通过热回流加热,进行焊接。这种方式也适合I/O密度较小(凸点间距40-50μm)的芯片。
热压(Thermal Compression Bonding,TCB) ,高防服务器采用高深宽比 、小尺寸的铜柱凸点,直接加热粘结 。这种方式能够实现高密度互联,适用于I/O密度较大(凸点间距40-10μm)的芯片。
金凸点的成本高 。相比之下 ,铜柱凸点的电性能、散热性能比较好,制备难度均衡,成本也比较低,所以用得比较多 。香港云服务器
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电子显微镜下的凸点
制作凸点的流程比较复杂 。其实说白了,就是前面晶圆制造时的那套工艺,例如沉积、光刻 、刻蚀等 。
沉积包括UBM(Under Bump Metallization ,凸点下金属化层)的沉积和凸点本身的沉积。UBM位于凸点与芯片焊盘(金属垫,Al pad铝垫层)之间 ,起到增强凸点附着力 、提高电导率和热导率的作用。
UBM的沉积 ,通常采用溅射(Sputtering)、化学镀(Electroless)、电镀(Electroplating)的方式实现 。
凸点本身的沉积 ,通常采用电镀、印刷、蒸镀 、植球的方式实现(前两者比较常见)。
大致的流程,看下面的示例图应该能懂(不懂的话 ,可以回顾晶圆制造那一期的内容):
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比较特别的是,最后多了一个步骤——“回流” ,把锡帽变成了子弹头形状 。
第二步,是对准和贴装 。简单来说 ,就是使用精密的贴装设备,将晶粒上的凸点与基板上的焊盘进行精确对准 ,然后通过回流焊等工艺 ,实现凸点与焊盘的连接 。
回流焊的大致过程:

回流焊流程
先将晶粒(芯片)的凸点沾上助焊剂,或者在基板上加定量的助焊剂。助焊剂的作用,是去除金属表面氧化物并促进焊料流动 。
然后,用贴片设备将晶粒精准地放到基板上。
接下来 ,将晶粒和基板整体加热(回流焊),实现凸点和焊盘之间的良好浸润结合(温度和时长需要严格控制)。
最后,清洗去除助焊剂 ,就OK了。
凸点数量较多、间距较小时,回流焊容易导致出现翘曲和精度问题 。于是,这个时候就可以用热压(TCB)工艺。
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热压流程
前文提到 ,热压(TCB)工艺非常适合更多凸点 、更小凸点间距的芯片 。它利用高精度相机完成芯片间的对准,并通过控制热压头的压力与位移接触基座 ,施加压力并加热,实现连接 。(后续我们讲混合键合,会再提到热压。)
第三步 ,底部填充。连接之后 ,大家会注意到,晶粒和基板之间的区域是空心结构。(芯片底部的焊球分布区,也叫C4区域 ,Controlled Collapse Chip Connection,“可控塌陷芯片连接” 。)
为了避免后续出现偏移 、冷焊、桥接短路等质量问题 ,需要对空心部分进行填充 。
填充和传统封装的塑封有点像,使用的是填充胶(Underfill)。不仅能够固定晶粒,防止移动或脱落 ,还能够吸收热应力和机械应力,提高封装的可靠性。
底部填充工艺一般分为三种 :毛细填充(流动型)、无流动填充和模压填充。
一般来说 ,倒装封装都是以毛细填充为主。方法比较简单 :清洗助焊剂之后,沿着芯片边缘 ,注入底部填充胶 。底部填充胶借助毛细作用,会被吸入芯片和基板的空隙内,完成填充 。
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填充之后 ,还要进行固化。固化的温度和时间,取决于填充胶的种类和封装要求。
以上,就是倒装封装(凸点工艺)的大致流程 。
相比传统封装,倒装封装的优势非常明显:
1、能够实现高密度的I/O电气连接,有利于减小芯片的体积 。
2、凸点连接,相比引线 ,可靠性也更强。
3、信号传输路径大大缩短,减少寄生电容和电感,提高信号的完整性。
4 、晶粒和基板直接接触,热量能够快速传导并散发出去。
凸点(bump)的制造过程与晶圆制造(前道)过程非常相似,本身又介于晶圆制造(前道)和封装测试(后道)之间。所以,也被称作“中道”工序。
后面会提到的TSV和RDL,也是中道工序。
最近这十几年,先进封装高速发展,凸点工艺也一直在演进。
从球栅阵列焊球(BGA Ball)到倒装凸点(FC Bump),再到微凸点(μBump),凸点的尺寸在不断缩小 ,技术难度也在不断升级 。
后续小枣君要提到的芯片堆叠、还有立体封装(2.5D/3D) ,很多都是以凸点工艺为基础 。它的重要性不言而喻 ,请大家一定要注意。
3D封装中的微凸点(μBump)
插播一个概念——键合(Bonding) 。
上期小枣君介绍了传统封装里的引线封装 。刚才,又介绍了倒装封装。
这种将晶圆和晶圆 、晶圆和基板“粘贴”在一起的做法,有一个专门的名字,就是键合 。
引线封装 ,叫引线键合。倒装封装 ,叫倒装键合 。
除了这两种键合之外,还有 :载带自动键合 、混合键合、临时键合等 。
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载带自动键合(Tape Automated Bonding ,TAB),是一种将芯片组装到柔性载带上的芯片封装键合技术。
载带自动键合与引线键合非常类似,主要区别在于引线键合中 ,芯片的载体是引线框架或者PCB基板。而载带自动键合 ,用的是柔性载带。
载带自动键合
载带既作为芯片的支撑体 ,又作为芯片与外围电路连接的引线 。
载带自动键合包括以下5个步骤 :
1、制作载带:载带其实就是铜箔材料 。将铜箔贴合在聚酰亚胺胶带上,经过光刻和蚀刻,形成固定的 、精细的导电图形 ,并制作定位孔和引线窗口,就变成了载带。
2、内引线键合(ILB,Inner Lead Bonding):将预先形成焊点的芯片精确定位后 ,采用热压或热超声方式同时将所有内引线与芯片焊盘连接 。
3、对准和贴装:将芯片贴装在基板上 。
4 、外引线键合(OLB,Outer Lead Bonding) :将载带与基板或PCB对准 ,通常采用热压方式实现批量键合 。
5、注塑保护 :这个和引线键合流程差不多,就是形成保护层。
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相比于引线键合,载带自动键合适合高密度 、细间距的封装要求,具有不错的电气性能和散热性能 ,适合LCD驱动器等高密度引线连接场合。
在传统 、低成本应用中,载带自动键合凭借工艺简单、技术成熟的特点,仍有一定优势。但现在都是更高性能 、更高密度封装时代,载带自动键合在应用和普及上,肯定还是不如倒装键合 。
混合键合 、临时键合 ,这两个概念非常重要 。后续讲到立体封装时,小枣君会详细介绍。
再插播一个概念——CSP(Chip Scale Package,芯片级封装) 。
前面几期里 ,提到过CSP ,说CSP是芯片小型化封装的一种方式。
CSP是BGA之后开始崛起的。主要原因,就是因为数码产品小型化、便携化,对芯片体积提出了要求。
CSP封装 ,锡球间隔及直径更小 ,芯片面积与封装面积之比超过 1:1.14,已经相当接近 1:1 的理想情况 ,约为普通BGA封装的1/3 。
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和BGA一样,CSP也分为WB CSP和FC CSP 。
通常来说,FC CSP较多应用于移动设备(例如手机)的AP、基带芯片。而FC BGA ,较多应用于PC、服务器的CPU 、GPU等高性能芯片 。
这个知识点大家知道一下就好,不算重点。
好了,今天先讲到这里 。